利用微波等离子体增强化学气相沉积(MPECVD)法,在经处理的单晶硅衬底上沉积了纳米非晶碳薄膜。通过Raman、SEM、XRD表征,研究了催化剂对纳米非晶碳膜的生长速率及场发射性能的影响。结果表明,在制备纳米非晶碳膜时使用FeCl3作为催化剂可大幅提高其生长速率。在相同的制备条件下，与未加FeCl3催化剂制备的纳米非晶碳膜的场发射性能相比，加催化剂制备的碳膜开启电场降至0.5 V·μm-1；在1.8 V·μm-1的电场下，电流密度可以达到2.6 mA·cm-2，而且发射点密度较大、分布均匀。

在低温常压条件下,以ITO玻璃为衬底,采用电化学法与湿化学法结合的两步化学沉积法制备了团簇状ZnO薄膜。利用XRD,SEM分析了薄膜结构和表面形貌,并采用二极管结构在高真空条件下对薄膜进行了场发射性能测试。稳定发射后,开启电场为3.0 V/μm。当电场为5.8 V/μm时,电流密度为583.3 μA/cm2。研究表明：两步化学沉积法低温制备ZnO薄膜是可行的,且该薄膜具有良好的场发射性能。

Based on our study on field emission from multi-walled carbon nanotubes (MWNTs), we experimentally manufactured field emission display (FED) triode with a MWNTs cold cathode, and demonstrated an excellent performance of MWNTs as field emitters. The measured luminance of the phosphor screens was 1.8*10^(3) cd/m2 for green light. The emission is stable with a fluctuation of only 1.5% at an average current of 260 'mu'A.

报道了一种碳氮薄膜材料的拉曼光谱,该光谱明显具有两个特征拉曼峰,和已有的碳基薄膜及碳氢薄膜相区别,其峰值位置分别位于1400cm~(-1)及1370cm~(-1)。根据X射线衍射(XRD)分析和扫描电子显微镜(SEM)对该薄膜的形貌观察,初步认定该薄膜是由纳米级含氮弯曲层状石墨结构组成。拉曼峰1400cm~(-1)对应与弯曲面内C-C振动,拉曼峰1370cm cm~(-1)对应于长程无序而形成的D-线。该碳氮薄膜样品是采用微波等离子体化学气相沉积方法(MPCVD)制备而成。

以聚酰亚胺薄膜为靶子,用高电导硅作为衬底,KrF准分子激光器作为辐射光源,利用脉冲激光沉积技术制备出了类石墨薄膜,并以该薄膜为阴极对其进行了场致电子发射特性测试。当阴阳极之间产生放电即发生电形成过程之后,该薄膜的阈值电场从最初的16.9V/μm降到10.8V/μm。当电场为20V/μm时,薄膜场发射的电流密度达到了0.4mA/cm2,发射点密度达到10~3/cm2利用XPS,Raman光谱及扫描电子显微镜对该薄膜的微结构进行了测试分析。